給電阻值為2Ω的電阻施加15V電壓，根據(jù)歐姆定律，有i=V/R=15/2=7.5（A）的電流通過(guò)；此時(shí)如果將電壓由15V急速下降到5V，根據(jù)歐姆定律，有i=V/R=5/2=2.5（A）的電流通過(guò)；

同樣的試驗(yàn)應(yīng)用于鋁型材陽(yáng)極氧化時(shí)，與在電阻上試驗(yàn)得到的結(jié)果完全不同；如下圖所示，在15V進(jìn)行陽(yáng)極氧化時(shí)，有電流i1通過(guò)且有陽(yáng)極氧化膜生成；此時(shí)讓電壓急速降至5V，瞬時(shí)電流便會(huì)跌到接近于零，經(jīng)過(guò)T分鐘后對(duì)應(yīng)于5V電壓的電流i2又恢復(fù)；下圖中急速降低電壓，電流瞬時(shí)值接近于零，但經(jīng)過(guò)T分鐘后電流又恢復(fù)流動(dòng)的現(xiàn)象叫“陽(yáng)極氧化的電流恢復(fù)現(xiàn)象”這在鋁型材的陽(yáng)極氧化中是非常重要的，電流i2再次恢復(fù)的時(shí)間（T）叫電流恢復(fù)時(shí)間；

（陽(yáng)極氧化的電流恢復(fù)現(xiàn)象）

有關(guān)電流恢復(fù)時(shí)間（T）以下幾點(diǎn)已得到證實(shí)：

①電壓變化量V1和V2之間的差值越大，電流恢復(fù)時(shí)間（T）越長(zhǎng)；

②電壓緩慢下降時(shí)電流恢復(fù)時(shí)間非常短；

③電解液溫度越高，電流恢復(fù)時(shí)間越短；

④電解液濃度越高，電流恢復(fù)時(shí)間越短；

⑤電流恢復(fù)時(shí)間與陽(yáng)極氧化膜的厚度無(wú)關(guān)；

⑥電解液是否攪拌與電流恢復(fù)時(shí)間無(wú)關(guān)；

⑦電流恢復(fù)時(shí)間短至數(shù)秒，長(zhǎng)至數(shù)小時(shí)；

有關(guān)電流恢復(fù)現(xiàn)象的解釋有Murphy理論和永山理論；Murphy是電流恢復(fù)現(xiàn)象的發(fā)現(xiàn)者，并提出了“質(zhì)子空間充電層在排列”理論；陽(yáng)極氧化膜的阻擋層里存在帶正電的H^+;施加V1的電壓電解時(shí)，鋁型材是陽(yáng)極，質(zhì)子存在于遠(yuǎn)離鋁型材側(cè)的溶液的阻擋層中，如下圖所示；這一集合體叫質(zhì)子空間充電層；

（鋁型材陽(yáng)極氧化膜的質(zhì)子空間充電層）

質(zhì)子空間充電層的存在對(duì)于陽(yáng)極氧化膜的生成是必需的；因質(zhì)子空間充電層的形成而產(chǎn)生陽(yáng)極氧化的電流；質(zhì)子空間充電層使阻擋層的電場(chǎng)消失或者讓其減弱，質(zhì)子熱擴(kuò)散成上圖所示的分布狀態(tài)；用V2的電壓進(jìn)行陽(yáng)極氧化時(shí)，與上圖（a）分布完全不同，其分布圖變化順序是：圖（a）→圖（b）→圖（c）；由V1到V2電壓的變化，如上圖所示的質(zhì)子空間充電層的再排列就成為必要；質(zhì)子空間充電層的再排列是需要時(shí)間的，由電壓V1到V2變化時(shí)的一段時(shí)間里沒(méi)有電流，相當(dāng)于V2電壓的質(zhì)子空間充電層再次形成，且有電流i2流動(dòng)；因此，其實(shí)質(zhì)就是“電流恢復(fù)現(xiàn)象是質(zhì)子空間充電層的再排列”；

（氧化膜截面圖）

電流恢復(fù)現(xiàn)象和電壓相反變化的氧化膜結(jié)構(gòu)變化如上圖所示；比如，鉻酸溶液中鋁型材在20V進(jìn)行陽(yáng)極氧化后，將電壓提升到40V繼續(xù)陽(yáng)極氧化，再進(jìn)一步升到60V陽(yáng)極氧化時(shí)，其氧化膜結(jié)構(gòu)如上圖所示；電解電壓低時(shí)孔數(shù)多且孔壁薄，相反，電解電壓高時(shí)孔數(shù)變少且孔壁或阻擋層變厚；請(qǐng)牢記，陽(yáng)極氧化膜的構(gòu)造對(duì)電解電壓是敏感的；

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